光学元件抛光完工后的清洗工艺
1 |
介质 PGX―01+KOH溶液 或 PGX―01F
浓度 3%~5%+2%~3% 1%~3%
温度 75℃~85℃
超声波清洗时间 3~5分钟 |
2 |
60℃左右温度的自来水喷淋1~2分钟 |
3 |
介质 05—6#
浓度 1%~2%
温度 40℃~50℃
超声波清洗时间 1~2分钟 |
4 |
介质 05—6#
浓度 1%~2%
温度 40℃~50℃
超声波清洗时间 1~2分钟 |
5 |
流动自来水漂洗1~2分钟 |
6 |
去离子水漂洗1~2分钟 |
7 |
去离子水漂洗1~2分钟 |
8 |
去离子水漂洗1~2分钟 |
9 |
脱水吹干 |
光学元件镀膜前或装配前的清洗工艺
1 |
介质 DQ―01 或 05—6#
浓度 5%~10% 1%~2%
温度 40℃~50℃
超声波清洗时间 3~5分钟 |
2 |
40℃左右温度的自来水喷淋1~2分钟 |
3 |
介质 DQ―01 或 05—6#
浓度 2%~5% 1%~2%
温度 40℃~50℃
超声波清洗时间 1~2分钟 |
4 |
介质 DQ―01 或 05—6#
浓度 2%~5% 1%~2%
温度 40℃~50℃
超声波清洗时间 1~2分钟 |
5 |
流动自来水漂洗1~2分钟 |
6 |
去离子水漂洗1~2分钟 |
7 |
去离子水漂洗1~2分钟 |
8 |
去离子水漂洗1~2分钟 |
9 |
脱水吹干 |
注:第6~8步骤可根据情况合并为二个步骤。
针对对碱性敏感的元件,清洗剂可用942# 粉剂清洗剂进行清洗。
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